近期，国家知识产权局公示了2023年度国家知识产权优势企业和示范企业评定结果。经国家知识产权局审核，至格凭借在AR硬件行业内领先的研发创新实力和突出的知识产权管理能力，成功获评“国家知识产权优势企业”。
“国家知识产权优势企业”是国家知识产权局向在重点产业领域，具备承接国家和地方重大、重点产业发展项目，具备自主知识产权能力，积极开展知识产权保护和运用，建立了全面知识产权管理制度和机制，具备知识产权综合实力的企事业单位颁发的荣誉称号。
至格是专注于AR衍射光波导、衍射光栅和微纳光学领域的国家高新技术企业。公司采用IDM模式，自主掌握“光栅设计、光栅母版加工、纳米压印生产”三大核心技术，三大技术均处于国内领先、国际一流水平。
技术方面，至格创新性首创光栅矢量计算与光线追迹相融合的衍射光波导设计算法、线宽和槽深渐变的光栅母版加工工艺、大尺寸母版拼接技术和大尺寸纳米压印等核心技术，成功攻克了制约我国AR衍射光波导领域发展的多项“卡脖子”关键技术。
至格已获得企业知识产权管理体系认证和北京市知识产权试点单位认定，本次获评“国家知识产权优势企业”，更是标志着至格在技术研发、产品创新、知识产权保护等方面获得了国家级权威认可。
未来，至格将持续加强研发创新力度，重视高价值专利培育，进而有效运用知识产权提高企业核心竞争力，推动AR硬件产业高质量快速发展。
