核心技术
CORE TECHNOLOGY
基于严格电磁场理论的光栅设计方法
光栅作为一种具有周期性纳米结构的衍射光学元件,其衍射特性需要基于严格的电磁学理论进行计算,通过求解麦克斯韦方程分析各种光栅的光学特性。至格科技基于严格的光栅电磁场理论,通过自主研发光栅设计平台,实现准确、快速的光栅设计。在衍射光波导设计方面,我们集成了衍射光学和几何光学设计方法,通过高效的算法,实现理想的光学效果。
基于全息光刻和离子束刻蚀的光栅母版制备工艺
光栅母版制备是光栅生产的核心工艺环节。在光栅母版制备过程中,不仅需要精确控制光栅槽形,还需要兼顾整个光栅区域的均匀性,以获得符合设计要求的衍射特性。因此,光栅母版制备有极高的技术壁垒。至格科技基于二十余年的技术积累,掌握完整、成熟的基于全息光刻和反应离子束刻蚀的光栅母版制备工艺,同时拥有工艺终点在线检测、光栅杂散光控制、全息光刻姿态对准等先进工艺技术,能够实现各种复杂槽形的光栅母版制备。
光栅的纳米压印生产工艺
纳米压印是将光栅母版批量转化为光栅产品的生产工艺,其设备的成熟度和工艺材料的稳定性直接决定了光栅产品的量产良品率和生产成本。其中,衍射光波导纳米压印的主要难点是需要在晶圆玻璃上同时压印出多个具有不同槽形的光栅结构,同时保证结构的转写和精度。至格科技掌握整套纳米压印生产的设备、工艺和材料技术,可实现常规的直齿形光栅结构和特殊的斜齿形、三角形等光栅结构的纳米压印,压印精度可达到纳米级。